目录

  • 1 授课计划
    • 1.1 授课计划
  • 2 项目一光伏电池的准备
    • 2.1 任务一 晶硅太阳电池发电原理
    • 2.2 光伏产业链
    • 2.3 任务三 硅片分检
    • 2.4 单元测试一
  • 3 制绒工艺
    • 3.1 制绒工艺目的与原理
    • 3.2 单晶制绒操作工艺
    • 3.3 多晶制绒操作工艺
    • 3.4 制绒不良分析
    • 3.5 多晶黑硅制绒工艺
    • 3.6 实验——片盒插片
    • 3.7 项目二单元测试
  • 4 扩散工艺
    • 4.1 扩散目的与原理
    • 4.2 扩散工艺操作
    • 4.3 扩散炉的操作与维护
    • 4.4 扩散工艺常见问题分析
    • 4.5 扩散工艺改进
    • 4.6 扩散单元测试
  • 5 刻蚀工艺
    • 5.1 刻蚀工艺目的与原理
    • 5.2 干法刻蚀工艺
    • 5.3 湿法刻蚀工艺
    • 5.4 湿法刻蚀常见问题
  • 6 镀膜工艺
    • 6.1 减反射膜原理
    • 6.2 PECVD镀膜操作工艺
    • 6.3 PECVD检测
    • 6.4 PECVD镀膜常见问题分析
    • 6.5 背面镀膜
    • 6.6 4-6单元测试
  • 7 丝网印刷工艺
    • 7.1 丝网印刷的目的和原理
    • 7.2 丝网印刷工艺与设备
    • 7.3 丝网印刷中常见问题分析
  • 8 烧结工艺
    • 8.1 烧结目的与原理
    • 8.2 烧结工艺流程与设备维护
    • 8.3 烧结常见问题分析
  • 9 检测分级工艺
    • 9.1 检测分级的目的与原理
    • 9.2 缺陷检测工艺
    • 9.3 人工分选
    • 9.4 检测中常见问题片分析
  • 10 事业部管理
    • 10.1 7s管理
    • 10.2 7-10单元测试
  • 11 新型太阳能电池技术
    • 11.1 多晶黑硅技术
    • 11.2 PERC及SE技术
    • 11.3 N型PERT及TOPCon技术
    • 11.4 HIT技术
    • 11.5 本章作业
刻蚀工艺目的与原理
  • 1 学习者通道
  • 2 ppt

刻蚀为:干法刻蚀(又称等离子刻蚀、刻蚀周边层)和湿法刻蚀两种。两种刻蚀的工艺完全不同,一种用气体、一种用液体。两种刻蚀的效果也不同。

干法刻蚀刻蚀周边N型硅

湿法刻蚀:刻蚀周边N型硅;背面N型硅;正面PSG、死层

下面来一起学习吧!