刻蚀工艺目的与原理
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刻蚀分为:干法刻蚀(又称等离子刻蚀、刻蚀周边层)和湿法刻蚀两种。两种刻蚀的工艺完全不同,一种用气体、一种用液体。两种刻蚀的效果也不同。
干法刻蚀:刻蚀周边N型硅
湿法刻蚀:刻蚀周边N型硅;背面N型硅;正面PSG、死层
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